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化合物・半導体結晶
Xiamen Compound Semiconductor Wafers Co.,Ltd

XCSW社は1990年中国アモイで設立した化合物半導体材料企業です。
Ga,Al,In,As,PをベースにしたⅢ-Ⅴ族シリコンドープn型半導体上に、第1世代Geウェハ、第2世代ガリウムひ素を基板成長エピタキシャル技術を開発しました。
現在はMBE又はMOCVDによってLED,パワーデバイス用SiCやGaNを取り扱っております。

取扱い半導体結晶基板・ウェハ


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結晶名、タイプ、サイズ、キャリア濃度、抵抗値、モビリティ、EPD、TTVなど
必要とするスペックを指定ください。
サイズ以外特に指定がない場合、既存製品のスペック又は不問にてご案内となります。

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